Nano BC-18 刮涂設(shè)備（Blade coating）是針對有機電子學領(lǐng)域（包括有機/鈣鈦礦太陽能電池、有機場效應晶體管、有機發(fā)光二極管等），光學薄膜（增亮膜、hardcoat、偏光膜、擴散膜等）制造等，而設(shè)計開發(fā)的一款具有自主知識產(chǎn)權(quán)的大面積專業(yè)制膜設(shè)備。

相比市面上傳統(tǒng)應用于油墨/漿料等材料的涂布設(shè)備，該款設(shè)備可以從多個維度對薄膜沉積進行調(diào)控，因此適用于制備厚度從幾納米到微米級的薄膜。同時配備完整且精密的控制系統(tǒng)以及原位監(jiān)控系統(tǒng)，操作便捷且人性化，工藝摸索簡易可傳承，可多方位幫助用戶得到理想的較佳膜厚。

測試結(jié)果

2 英寸超薄有機Dif-TES-ADT 膜

平均厚度62 nm

表面覆蓋率 100%

表面粗糙度5 nm

條件：刮涂速度 1 mm/s，刮刀角度 30°，溫度 60°C

蘇州大學：Nanoscale Horiz. 2020, DOI: 10.1039/d0nh00096e

性能參數(shù)

最大基片尺寸 210*210mm

基臺平整度 <2um

運動機構(gòu) 氣浮導軌結(jié)合直線伺服

刮刀 有效最大外寬MAX220mm

刮刀平整度 2um

涂布刀頭（風刀刮刀一體式）升降分辨率 0.001mm

涂布刀頭（風刀刮刀一體式）升降速度 0.01mm/s-15mm/s

涂布刀頭（風刀刮刀一體式）移動分辨率 0.001mm

涂布刀頭（風刀刮刀一體式）移動速度 1mm/s-100mm/s

涂布刀頭（風刀刮刀一體式）與平臺平行度 <5um

涂布行走速度均勻性 小于0.5%（50mm/s）

人機交互系統(tǒng) 外置PC控制系統(tǒng)

閃蒸系統(tǒng) 標配閃蒸系統(tǒng)，風刀系統(tǒng)可選

尺寸 800mm（W）*700mm（D）*700mm（H）