清空記錄
歷史記錄
取消
清空記錄
歷史記錄
產(chǎn)品介紹
PvS-LT5低溫氛圍旋涂儀,是我司繼加熱旋涂,光譜旋涂,卡槽真空雙路旋涂后,為鈣鈦礦科研定制化開發(fā)的一款新型儀器。本機契合了科研人員在低溫下進行鈣鈦礦層旋涂,通過改變材料溫度優(yōu)化現(xiàn)有工藝的需求。在儀器開發(fā)試驗的對比案例中,本旋涂儀制備的鈣鈦礦薄膜相較傳統(tǒng)設(shè)備制備的在結(jié)構(gòu)和形貌表征上都有明顯變化。
PvS-LT5在設(shè)計上兼顧了氣氛、溶液、基底片材的低溫要求,通過各種腔體設(shè)置保證薄膜制備過程中溶液溫度的穩(wěn)定性和一致性。本機低溫可調(diào)可控,顯示精度優(yōu)于0.1℃;同時配備了不銹鋼金屬內(nèi)襯,方便清理的前提下兼顧了導(dǎo)熱效率。
產(chǎn)品特點
4.3寸工業(yè)全彩觸屏人機界面與高精度無刷電機
PP內(nèi)腔,耐腐蝕透明蓋
真空吸附壓力保護
可處理基片范圍:小于10mm碎片至3寸圓形底物
可選配升級自動滴膠裝置
技術(shù)參數(shù)
轉(zhuǎn)速范圍 100-12000rpm
轉(zhuǎn)速分辨率 1rpm
加速度可調(diào)范圍100-30000rpm/s
最大單步時長 3000s
時間分辨率 0.1s
配方功能 最大100組配方存貯
單步和多步旋涂功能 多步支持10步程序
標(biāo)配兩種真空載物盤(支持定制) 10mm、20mm
溫度范圍 室溫至-5℃
溫度分辨率 0.1℃
磁力攪拌 標(biāo)配低溫磁力攪拌,速度可調(diào)
設(shè)備總重量 機器11千克+電源3千克
旋涂電源輸入 寬電壓輸入220-240VAC
制冷電源 寬電壓輸入220-240VAC 350W
旋涂外形尺寸 210mm(W)*270mm(D)*270mm(H)
制冷電源尺寸 180mm(W)*300mm(D)*160mm(H)
氣泵參數(shù) 220VAC/負(fù)壓范圍0~-80kPa
氣泵尺寸 270mm(L)*110mm(W)*155mm(H)
產(chǎn)品介紹
PvS-LT5低溫氛圍旋涂儀,是我司繼加熱旋涂,光譜旋涂,卡槽真空雙路旋涂后,為鈣鈦礦科研定制化開發(fā)的一款新型儀器。本機契合了科研人員在低溫下進行鈣鈦礦層旋涂,通過改變材料溫度優(yōu)化現(xiàn)有工藝的需求。在儀器開發(fā)試驗的對比案例中,本旋涂儀制備的鈣鈦礦薄膜相較傳統(tǒng)設(shè)備制備的在結(jié)構(gòu)和形貌表征上都有明顯變化。
PvS-LT5在設(shè)計上兼顧了氣氛、溶液、基底片材的低溫要求,通過各種腔體設(shè)置保證薄膜制備過程中溶液溫度的穩(wěn)定性和一致性。本機低溫可調(diào)可控,顯示精度優(yōu)于0.1℃;同時配備了不銹鋼金屬內(nèi)襯,方便清理的前提下兼顧了導(dǎo)熱效率。
產(chǎn)品特點
4.3寸工業(yè)全彩觸屏人機界面與高精度無刷電機
PP內(nèi)腔,耐腐蝕透明蓋
真空吸附壓力保護
可處理基片范圍:小于10mm碎片至3寸圓形底物
可選配升級自動滴膠裝置
技術(shù)參數(shù)
轉(zhuǎn)速范圍 100-12000rpm
轉(zhuǎn)速分辨率 1rpm
加速度可調(diào)范圍100-30000rpm/s
最大單步時長 3000s
時間分辨率 0.1s
配方功能 最大100組配方存貯
單步和多步旋涂功能 多步支持10步程序
標(biāo)配兩種真空載物盤(支持定制) 10mm、20mm
溫度范圍 室溫至-5℃
溫度分辨率 0.1℃
磁力攪拌 標(biāo)配低溫磁力攪拌,速度可調(diào)
設(shè)備總重量 機器11千克+電源3千克
旋涂電源輸入 寬電壓輸入220-240VAC
制冷電源 寬電壓輸入220-240VAC 350W
旋涂外形尺寸 210mm(W)*270mm(D)*270mm(H)
制冷電源尺寸 180mm(W)*300mm(D)*160mm(H)
氣泵參數(shù) 220VAC/負(fù)壓范圍0~-80kPa
氣泵尺寸 270mm(L)*110mm(W)*155mm(H)